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  • 日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備 RIE-10NR
    日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備 RIE-10NR
    RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)最苛刻的工藝要求。 計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編程和存儲(chǔ)提供了用戶友好的界面。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì)，RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
    型號(hào)：RIE-10NR
    發(fā)布時(shí)間：2023-08-07
  • 日本SAMCO ICP-RIE等離子體蝕刻設(shè)備 RIE-800iP
    日本SAMCO ICP-RIE等離子體蝕刻設(shè)備 RIE-800iP
    RIE-800iP是一種高性能ICP(電感耦合等離子體)蝕刻系統(tǒng)，它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體或介電膜蝕刻.
    型號(hào)：RIE-800iP
    發(fā)布時(shí)間：2024-02-03
  • 日本SAMCO 深硅蝕刻設(shè)備 RIE-400iP
    日本SAMCO 深硅蝕刻設(shè)備 RIE-400iP
    The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng)，它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體蝕刻。
    型號(hào)：RIE-400iP
    發(fā)布時(shí)間：2024-02-03
  • Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80
    Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80
    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
    型號(hào)：PlasmaPro 80 RIE
    發(fā)布時(shí)間：2023-03-01
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